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    射頻電源是等離子體設備的能量驅動源，主要應用于射頻濺射、等離子體化學氣相沉積(PECVD) 、等離子體鍍膜、清洗、刻蝕等制造行業。由射頻信號發生器、功率放大器、VI 檢測單元以及核心處理器等部分組成。

    我公司研制的高性能射頻電源、匹配器系列產品，廣泛應用于半導體制造、等離子體刻蝕、等離子體清洗、PECVD/CVD/PVD、薄膜沉積、射頻濺射、醫療美容、科學研究等方面。

    工作頻率：13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz

    輸出功率：300W、600W、1kW、1.5kW、3kW、6kW、8kW、10kW、12kW、20kW或定制

v 先進高效率、高穩定性射頻功放技術

v  全數字控制，高穩定度和高可靠性

v  穩定可靠的功放和直流控制模塊

v 具有駐波保護功能，能在負載出現異常后快速啟動

v  輸出功率余量大，可長期穩定的工作

v  具有精確的功率測量功能，能精確的測量入射和反射功率

v  具有自動增益控制，能精準的控制輸出功率

v  支持本地控制和遠程控制，遠程控制采用RS485和RJ45網口

v  采用先進的功放技術，輸出功率可從50W至最大輸出功率連續可調

v  模塊化結構設計，安裝維修方便，節省空間，結構外形美觀，大方

v  支持實時功率和負載阻抗測量

v  支持連續工作模式、脈沖工作模式

v 完善的保護功能：過荷、過流、過溫等保護

應用領域及行業：
半導體工藝設備、等離子體處理、材料表面改性、LED與?太陽能光伏產業?、科學實驗、醫療美容、常壓等離子體消毒清洗等

等離子體清洗、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、等離子體刻蝕、射頻離子源、等離子體擴散、等離子體聚合濺射、薄膜沉積、硅晶鍍膜等

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